Научно-исследовательская работа
Как выяснил CNews, Министерство промышленности заказало научно-исследовательскую работу «Разработка и освоение производства литографических материалов для микроэлектронного производства». На эти цели из бюджета выделено 1,1 млрд руб., следует из ЕИС «Закупки».
Работе присвоен шифр «Фотолиз». Актуальность ее обусловлена прекращением поставок фоторезистов и антиотражающих покрытий иностранного производства для изготовления интегральных схем при отсутствии российских разработок и производства аналогичных материалов, отмечается в техническом задании.
Потенциальными потребителями материалов в документе указаны АО «Микрон» и ООО «НМ-Тех». Работы должны быть выполнены до 12 декабря 2025 г.
Тендер в формате открытого конкурса был опубликован 14 февраля 2023 г. Заявки принимаются до 3 марта 2023 г. Итоги будут подведены 9 марта.
Какие материалы требуются
В рамках НИР, заказанной Минпромторгом, предполагается создание фоторезистов для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248 нм.
Фото: © orcearo / Фотобанк Фотодженика В России к концу 2025 г. начнут производить фоторезисты
В рамках работ предусмотрена разработка и освоение производства фоторезистов, а именно марки ФР248-01, ФР248-02, ФР248-03, ФР248-04, ФР248-05 и двух антиотражающих покрытий, а именно марки ПА248-01 и ПА248-02.
Исполнитель должен проделать не только теоретические и эскпериментальные работы, но и провести испытания опытных партий фоторезистов, а также подготовить и освоить их производство. «В процессе выполнения НИР образцы разработанных материалов должны быть переданы предприятиям и получено заключение по уровню параметров и применяемости», — отмечается в документах.
Использование в процессе выполнения НИР сырья, материалов и оборудования иностранного производства должно быть согласовано с Минпромторгом.
Фоторезисты в России
Фоторезисты представляют собой разновидность светочувствительных полимеров, которые в процессе изготовления микросхем наносятся на кремниевую пластину. Далее производится экспонирование фоторезиста литографической системой через окна фотошаблонов, с последующим «вытравливанием» дорожек на кремниевом кристалле.
В техпроцессах используются лазерные установки с длиной волны 248 нм или 193 нм. В сочетании со специальными фазосдвигающими фотошаблонами и иммерсионной технологией (погружение в жидкость), такие фоторезисты позволяют формировать узлы чипов до 14 нм.
Для работы с фоторезистами необходимо специальное оборудование. Так, в ноябре 2021 г. CNews писал о том, что в России за 5,7 миллиарда создадут фотолитографическое оборудование для печати процессоров. Работы должны быть выполнены до ноября 2026 г.
В апреле 2022 г. стало известно о планах «Микрона» вдвое увеличить объемы выпускаемых кремниевых пластин, чтобы победить дефицит отечественных полупроводников в России. Собеседник «Коммерсанта» тогда отметил, что «Микрон» может столкнуться с нехваткой расходных материалов, в особенности тех, что поставляли компании из отвернувшиеся от России государств. В частности, говорилось о фоторезистах, которые ранее импортировались из стран Европы. А оборудование для дополнительных объемов собирался закупать на вторичном рынке, отмечал источник издания.
